國産ArF光(guāng)刻膠已(yi)有3家企(qǐ)業實現(xiàn)實質性(xing)的技術(shù)突破

勢(shì)銀(TrendBank)研究(jiu)統計分(fen)析，2021年國(guo)内半導(dao)體光刻(ke)膠市場(chang)規模🥵将(jiang)達到29億(yì)人民币(bì)。

 

 

國内半(bàn)導體光(guāng)刻膠布(bù)局及生(shēng)産企業(ye)總計約(yuē)有14家，真(zhen)正實現(xian)了批量(liang)供應的(de)企業不(bú)足7家，且(qiě)主要集(ji)中在紫(zi)‼️外負膠(jiāo)/正膠、i/g線(xian)光刻膠(jiao)，如：北京(jing)科華、蘇(sū)州瑞紅(hóng)、濰坊星(xīng)泰克、艾(ài)森半導(dǎo)體、江蘇(su)漢拓等(děng)。而高端(duān)的KrF光刻(kè)膠國産(chǎn)化率不(bu)足1%，能夠(gou)實現産(chǎn)品供應(ying)🌏的☎️有：北(bei)京科華(hua)、福建泓(hong)光半導(dǎo)體、江蘇(sū)漢拓、上(shàng)海新陽(yang)等。在技(jì)術附加(jia)值更高(gao)的ArF光刻(ke)膠産品(pǐn)上，目前(qian)國内還(hái)未能真(zhēn)正實現(xiàn)規模化(huà)量産訂(dìng)單供應(yīng)，就數甯(ning)波南大(dà)光電、博(bo)康旗下(xià)漢拓光(guāng)學以及(jí)廣州微(wei)納光⚽刻(kè)材料在(zai)ArF光刻膠(jiāo)産品上(shang)有實質(zhì)性的技(ji)術突破(po)。

 

來源：勢(shì)銀(TrendBank) 

 

窺探(tan)中國大(da)陸規模(mo)最大的(de)晶圓代(dai)工廠中(zhōng)芯國際(ji)各技🔞術(shù)節點營(ying)收結構(gòu)，在2020年年(nián)底被美(mei)國打壓(yā)，四季度(du)45nm以下制(zhi)😄程營收(shou)發🐉生嚴(yán)重壓縮(suo)，但在今(jīn)年上半(ban)年公司(si)整體運(yun)營開始(shǐ)逐步轉(zhuan)好，營收(shou)增長了(le)33%，28nm/14nm的先進(jin)🤟制程占(zhàn)比更是(shì)顯著提(tí)升，這也(ye)推動了(le)上遊先(xian)進光刻(kè)膠的需(xu)求，尤其(qí)是ArF光刻(kè)膠的國(guo)産替🔆代(dai)。 

 

來源：SMIC

 

目(mù)前國内(nèi)芯片制(zhi)造企業(ye)消耗的(de)ArF光刻膠(jiao)基本是(shi)采購國(guó)⚽外供應(yīng)商，例如(rú)：JSR、TOK、信越化(hua)學等。我(wo)國本土(tǔ)光刻膠(jiāo)企業在(zai)ArF光刻膠(jiāo)産品上(shang)還是和(he)國際老(lǎo)牌供應(ying)商之間(jiān)存在很(hěn)大的🥰光(guang)刻性能(neng)差距，如(rú)：折射🌂率(lü)、光敏度(du)、分辨率(lǜ)、線邊緣(yuan)粗糙度(dù)等等參(can)數。經勢(shi)銀(TrendBank)調🔞研(yan)統計，我(wo)🧑🏾‍🤝‍🧑🏼國正在(zai)真正逐(zhú)步推進(jìn)ArF光刻膠(jiāo)項目且(qie)有技術(shù)實力的(de)廠商僅(jin)有如下(xia)6家，推測(cè)這幾家(jia)也将是(shi)未來2-3年(nián)内逐一(yi)打入本(běn)土芯片(piàn)制造商(shāng)供應鏈(liàn)的最有(yǒu)利競争(zhēng)者：

 

 

甯波(bō)南大光(guāng)電

公司(sī)是ArF光刻(kè)膠産品(pǐn)開發與(yu)産業化(huà)項目的(de)實施主(zhǔ)體單位(wei)，目前ArF幹(gan)式光刻(kè)膠已通(tōng)過50nm閃存(cun)平台認(rèn)證和55nm邏(luo)輯電路(lu)平❌台認(ren)證。公司(si)正在大(da)力推進(jin)ArF光刻膠(jiao)（ArF幹式分(fen)辨率90-45nm，濕(shī)式分辨(biàn)率65-14nm）産能(néng)建設，規(gui)劃年産(chǎn)能達到(dao)25噸（幹式(shi)5噸和浸(jin)沒式20噸(dun)）。

 

上海新(xīn)陽

公司(si)是KrF厚膜(mó)膠與ArF光(guang)刻膠開(kai)發與産(chan)業化項(xiàng)目的實(shi)施主體(ti)單位，已(yi)擁有兩(liǎng)台ArF光刻(ke)機，可分(fèn)别用于(yu)幹法和(he)濕法光(guāng)刻膠開(kai)發。目前(qián)KrF厚膜膠(jiāo)（分辨率(lǜ)≥0.15μm，膜厚0.3-15μm）已(yi)通過下(xia)遊客戶(hù)驗證，可(kě)應用于(yu)3D存儲器(qì)件工藝(yi)/PAD/Implant，預計2021年(nian)年底會(huì)有訂單(dan)批☀️量供(gòng)應出貨(huò)。其ArF光刻(ke)膠尚處(chù)于客戶(hu)認證當(dang)中，可應(ying)用于先(xiān)進邏輯(ji)節點的(de)Line/Contact/Hole/Trench，按進度(dù)預計在(zài)2021年年底(di)會取得(dé)💯實質性(xing)的突破(po)進展。

 

 

北(běi)京科華(huá)

公司是(shì)國内本(ben)土KrF光刻(ke)膠主力(li)供應商(shang)，目前已(yǐ)經打入(rù)國🥰内多(duō)家芯片(pian)制造廠(chǎng)供應鏈(liàn)（如長江(jiāng)存儲、中(zhōng)芯國際(jì)😄、廣州🐉粵(yuè)芯、華虹(hong)⚽半導體(ti)），2021年上半(bàn)年KrF光刻(kè)膠同比(bi)增長94.51%，産(chǎn)品可應(ying)用于Poly/AA/Metal/Implant/Contact Hole等(děng)工藝，其(qí)ArF光刻膠(jiao)項目正(zhèng)在按計(ji)劃推進(jìn)。

 

晶瑞股(gǔ)份

公司(si)是老牌(pái)半導體(tǐ)光刻膠(jiāo)供應商(shāng)之一，現(xiàn)已擁有(yǒu)一台🌈ArF幹(gàn)式光🏃‍♀️刻(ke)機。其KrF光(guang)刻膠樣(yang)品正在(zai)下遊客(ke)戶驗證(zhèng)，分辨率(lü)可達0.15-0.25μm，可(ke)應用于(yú)Hole/Line/Space等層工(gōng)藝，其ArF幹(gàn)式光刻(ke)膠正處(chù)在開發(fa)階段，分(fèn)辨率可(kě)🚶‍♀️達90-65nm。

 

江蘇(sū)漢拓

公(gōng)司是徐(xú)州博康(kāng)集團控(kong)股子公(gong)司，具備(bèi)徐州博(bo)康成💁熟(shu)的⛱️KrF、ArF光刻(ke)🌐膠單體(ti)開發技(ji)術背景(jǐng)，目前已(yi)開發KrF正(zhèng)膠和負(fu)膠産品(pin)，以負膠(jiāo)（分辨率(lǜ)0.25μm，膜厚0.6μm）和(he)🚶‍♀️厚膜膠(jiāo)（分辨率(lǜ)1μm，膜厚3-5μm）爲(wèi)重點，可(kě)應用于(yú)Lift-off工藝、厚(hou)鋁刻蝕(shi)、PAD工藝；ArF系(xi)列光刻(ke)膠正在(zai)以與👈客(kè)戶合作(zuo)開發模(mo)式推進(jìn)，開發的(de)ArF光刻膠(jiāo)樣品分(fen)别達到(dào)了N90、N65、N55的應(ying)用需求(qiú)，已有一(yi)款ArF光刻(kè)膠産品(pǐn)小批量(liàng)供應某(mou)存儲芯(xīn)片制造(zao)商✉️，全系(xi)🧡列産品(pin)還需進(jìn)一步在(zai)客戶端(duān)評估驗(yan)證。

 

廣州(zhou)微納光(guāng)刻材料(liao)

公司專(zhuān)注開發(fa)ArF光刻膠(jiāo)，目前主(zhu)要開發(fā)了90nm和55nm節(jiē)點的ArF光(guang)刻膠樣(yang)品，90nm節點(diǎn)的光刻(ke)膠有很(hěn)好的線(xian)寬粗糙(cāo)度，55nm節點(diǎn)的高寬(kuān)比可達(dá)3.2:1，同複旦(dàn)大學微(wei)電子學(xué)院鄧海(hai)教授課(ke)題組有(you)深度合(hé)作，其以(yǐ)OEM形式進(jìn)行代工(gōng)生産，和(he)廣東/嘉(jia)興🏃‍♀️兩家(jia)化工生(shēng)産⛹🏻‍♀️企業(yè)簽😍訂了(le)代工協(xie)議。
 

勢銀(yin)(TrendBank)2021年推出(chū)最新年(nian)度報告(gao)《2021年光刻(ke)膠産業(ye)市場分(fèn)析報告(gao)》，本市場(chǎng)研究報(bao)告側重(zhong)于國内(nei)半導體(tǐ)/顯示光(guāng)刻膠市(shì)場/供🥵應(ying)✍️鏈，報告(gào)具體目(mu)錄如下(xià)：

 

第1章 光(guang)刻膠概(gài)念及其(qi)行業發(fā)展概述(shu)

1.1 光刻膠(jiao)概念深(shen)度剖析(xī)

    1.1.1 光刻膠(jiāo)應用場(chang)景分析(xī)

    1.1.2 光刻膠(jiao)的産品(pin)及應用(yòng)屬性分(fen)析

    1.1.3 先進(jìn)光刻材(cái)料熱點(diǎn)剖析

1.2 中(zhong)國光刻(ke)膠行業(ye)發展現(xiàn)狀

    1.2.1 國内(nèi)光刻膠(jiāo)整體市(shì)場及國(guo)産化情(qíng)況

    1.2.2 國内(nei)光刻膠(jiao)産業鏈(lian)瓶頸剖(pou)析

    1.2.3 國内(nèi)各地利(li)好政策(ce)及項目(mu)布局剖(pou)析

 

第2章(zhāng) 中國光(guang)刻膠專(zhuān)用化學(xue)品行業(ye)競争環(huán)境分析(xi)

2.1 全球光(guang)刻膠專(zhuān)用化學(xue)品主要(yao)企業格(gé)局現狀(zhuàng)

    2.1.1 上遊主(zhu)要企業(ye)所屬地(di)分布情(qing)況

    2.1.2 主要(yao)企業化(huà)學品經(jīng)營範疇(chóu)

2.2 國内光(guāng)刻膠專(zhuan)用化學(xué)品市場(chǎng)分析

2.3 國(guo)内光刻(kè)膠專用(yong)化學品(pin)主要企(qi)業剖析(xī)

    2.3.1 強力新(xīn)材

    2.3.2 聖泉(quan)集團

    2.3.3 徐(xú)州博康(kāng)

 

第3章 中(zhong)國光刻(kè)膠行業(yè)競争環(huán)境分析(xī)

3.1 國内光(guāng)刻膠企(qǐ)業地域(yù)分布深(shēn)度剖析(xī)

3.2 國内光(guang)刻膠企(qǐ)業的産(chan)品/産能(néng)情況統(tong)計

3.3 國内(nèi)光刻膠(jiao)市場深(shen)度剖析(xī)

    3.3.1 國内半(bàn)導體及(jí)顯示光(guāng)刻膠市(shi)場格局(jú)分析

    3.3.2 國(guó)内半導(dao)體及顯(xian)示光刻(ke)膠市場(chǎng)規模分(fen)析

3.4 國内(nèi)光刻膠(jiao)産業配(pèi)套檢測(cè)設備剖(pōu)析

    3.4.1 配套(tao)檢測設(shè)備資金(jin)投入占(zhàn)比剖析(xi)

    3.4.2 光刻膠(jiāo)關鍵設(shè)備國産(chǎn)化分析(xī)

 

第4章 全(quán)球光刻(ke)膠行業(yè)主要企(qi)業發展(zhǎn)情況分(fen)析

4.1 國外(wai)光刻膠(jiao)産業主(zhu)要企業(yè)經營情(qíng)況分析(xi)

    4.1.1 德國默(mo)克

    4.1.2 日本(běn)TOK

    4.1.3 日本JSR

    4.1.4 美(měi)國陶氏(shì)化學

4.2 重(zhòng)點企業(ye)發展情(qing)況剖析(xi)

    4.2.1 南大光(guāng)電

    4.2.2 晶瑞(rui)股份

    4.2.3 彤(tóng)程新材(cái)

    4.2.4 上海新(xīn)陽

    4.2.5 雅克(ke)科技

 

第(di)5章 中國(guo)光刻膠(jiāo)專利及(ji)光刻技(jì)術分析(xi)

5.1 國内主(zhǔ)要企業(ye)專利申(shēn)請情況(kuàng)剖析

5.2 國(guo)内光刻(ke)膠專利(lì)深度剖(pou)析

    5.2.1 國内(nèi)光刻膠(jiāo)專利結(jié)構分析(xī)

    5.2.2 國内外(wài)專利趨(qu)勢對比(bi)分析

5.3 先(xian)進光刻(kè)技術路(lù)線對比(bi)分析

 

第(di)6章 中國(guó)光刻膠(jiao)下遊需(xu)求市場(chang)情況分(fen)析

6.1 下遊(you)應用結(jie)構剖析(xi)

6.2 終端市(shi)場格局(ju)分析

 

第(di)7章中國(guo)光刻膠(jiao)産業市(shì)場發展(zhǎn)趨勢預(yu)測（2021-2025）

 

第8章(zhāng)中國光(guang)刻膠産(chǎn)業投資(zī)機會及(jí)風險分(fèn)析

8.1 産業(ye)投資機(ji)會

8.2 投資(zi)風險分(fen)析

 

轉載(zǎi)自：勢銀(yín)膜鏈微(wei)信公衆(zhong)号。