2025-12-13 10:30
通常來(lái)說,BondFilm工藝會(hui)将銅微蝕(shi)刻至1.2 到1.5 µm的(de)厚度,同時(shí)将銅♌表面(mian)(200 - 300 A)轉化🌈成期(qī)望的有機(ji)-金屬結構(gòu)。通過這個(gè)工藝後🧑🏽🤝🧑🏻,可(kě)見🏃♀️的結果(guǒ)便是形成(cheng)一個棕色(se)的均勻鍍(du)層❌。雖然銅(tong)的蝕刻會(huì)随着🛀🏻浸置(zhì)時間而不(bu)㊙️斷進行,但(dàn)是🏃♂️實際上(shang)BondFilm粘附層的(de)生❌長是受(shòu)自我限制(zhi)的,在該層(céng)的🏃🏻形成和(hé)溶解達到(dào)平衡後,就(jiu)會達到了(le)🚩一個最大(dà)厚度。
在高(gāo)溫壓力操(cāo)作下,BondFilm表面(miàn)就有了與(yu)半固化片(piàn)的機械🌍和(hé)化學雙接(jiē)合特性。
BondFilm 工(gong)藝隻有三(sān)步組成,可(ke)以通過浸(jin)置或者是(shi)傳送帶化(hua)模式完成(cheng)生産。
堿性(xìng)清潔 –正确(què)的清理銅(tong)表面是形(xing)成該表面(mian)一個必須(xu)♊的先📧決條(tiáo)件。BondFilm Cleaner ALK是一個(gè)高效,簡單(dan)的堿性清(qing)潔劑,用于(yú)從内層表(biao)面除去淤(yū)泥和污染(rǎn)物。這個步(bu)驟不僅僅(jǐn)是除去指(zhǐ)紋和光🤞阻(zǔ)材料殘餘(yu)。
活化-清潔(jie)步驟之後(hòu),BondFilm Activator對銅進行(hang)預處理用(yòng)來形成一(yī)個合适的(de)表面條件(jian),這是其形(xing)成粘附層(ceng)的必要條(tiáo)件。除了均(jun1)勻一緻的(de)活化銅表(biao)面,這一步(bu)也保護了(le)BondFilm溶液因"帶(dài)入"而産生(sheng)的污染。
适當的銅(tong)面清潔是(shi)棕化面形(xíng)成的必要(yao)條件。 内層(ceng)🔞鍵合清潔(jie)劑🔆BondFilm Cleaner ALK是一種(zhǒng)操作簡易(yì)的堿性清(qīng)潔試劑,可(ke)🎯有效祛除(chu)内層🙇♀️闆面(miàn)上的污垢(gou)及污染物(wù),更能有效(xiào)清除闆面(mian)上的手指(zhi)印及其他(ta)殘留。
Activation – Following the cleaning step, BondFilm® Activator pretreats the Copper to create the proper surface conditions necessary for the formation of the adhesion layer itself. In addition to uniformly activating the Copper surface, this stage also protects the BondFilm process solution from contamination caused by “drag-in”.
Finally the activated copper surface is then treated in the BondFilm® solution to form the organo-metallic coating. This component system offers a high degree of operating flexibility with simplified process maintenance. This component system offers a high degree of operating flexibility with simplified process maintenance.
最後,經活(huó)化的銅面(mian)進入棕化(hua)槽反應并(bìng)形成有機(ji)金屬層。 通(tong)過精簡化(hua)的流程維(wei)護,這一化(hua)合物體系(xi)提供了高(gao)度的操作(zuo)靈活性。
一(yi)般而言,整(zheng)個水平棕(zōng)化流程,包(bao)括水洗與(yǔ)烘幹,僅需(xu)3分鍾左右(you)的處理時(shí)間。
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