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新材(cái)料科技(jì)與化學(xue)技術創(chuàng)新
圖(tú)片名稱(chēng)

光刻(ke)膠 | 半導(dǎo)體高壁(bì)壘核心(xīn)材料

導(dao)言：光刻(ke)膠目前(qián)廣泛用(yòng)于光電(dian)信息産(chǎn)業的微(wēi)細圖形(xing)線路加(jia)工制作(zuò)，光刻工(gong)藝的成(cheng)本約占(zhàn)整個芯(xīn)片制💯造(zao)工藝的(de)35%，耗時占(zhan)整🌈個芯(xin)片工藝(yi)的40%到60%，是(shi)半導體(tǐ)制造中(zhong)的核心(xīn)工藝。光(guāng)刻膠材(cai)料約占(zhan)芯片制(zhi)造材料(liao)總成本(běn)的4%，是半(ban)導體集(jí)成電路(lù)制造的(de)核心材(cái)料。   中國(guó)光刻膠(jiao)市場增(zeng)速高于(yu)國際水(shui)平，據前(qián)瞻産業(ye)研究院(yuàn)數據，2019年(nian)我國光(guang)刻膠本(ben)土供應(ying)量約70億(yì)元，自2010年(nian)起複🏒合(hé)增速達(da)11%，遠高于(yú)全球增(zēng)速，但本(ben)土供應(yīng)量在全(quan)球占比(bǐ)僅10%左右(you)，且以已(yi)經實現(xian)國産替(tì)代的主(zhu)要是中(zhong)低端PCB光(guang)刻膠💞，LCD和(he)半導體(ti)領域的(de)光刻膠(jiāo)自給率(lǜ)極低。   光(guang)刻膠是(shi)圖形👄轉(zhuan)移介質(zhi)，其利🏃‍♂️用(yòng)光照反(fan)應後溶(rong)解度✂️不(bú)同将掩(yan)膜版🚶‍♀️圖(tú)形轉移(yi)至襯底(di)上，主要(yào)由感光(guang)劑(光引(yǐn)發劑)、聚(ju)合劑(感(gan)光樹脂(zhī))、溶劑與(yǔ)助劑構(gou)成。   光刻(ke)膠原材(cái)料主要(yao)爲樹脂(zhi)、溶劑和(hé)其他添(tiān)加劑。其(qi)中溶劑(jì)📧質量占(zhan)比最大(da)，一般在(zài)80%以上。其(qi)他⛹🏻‍♀️添加(jiā)劑質量(liàng)占比雖(sui)不足5%，卻(que)是決定(ding)光刻膠(jiao)特有性(xìng)質的關(guan)💃鍵材料(liào)，包括光(guāng)敏劑、表(biao)面活性(xìng)劑等🌈材(cái)料。   在光(guāng)刻工藝(yì)中，光刻(kè)膠被均(jun1)勻塗布(bù)在矽片(piàn)、玻璃💋和(hé)金屬等(deng)不同的(de)襯底上(shang)，經曝光(guang)、顯影和(he)蝕刻等(děng)工序将(jiang)掩膜版(ban)上的圖(tú)形轉移(yí)到薄膜(mó)上，形成(cheng)與掩膜(mo)版完全(quán)對應的(de)幾何圖(tu)形。   光刻(ke)膠可根(gen)據其下(xià)遊應用(yòng)領域分(fen)爲半導(dǎo)體光刻(ke)膠、面闆(pǎn)光刻膠(jiāo)和PCB光刻(ke)膠三類(lei)。   半👈導體(tǐ)光刻膠(jiao) 目前，KrF/ArF仍(reng)是主流(liú)的加工(gōng)材料🍓。光(guāng)刻技術(shù)随着集(ji)成電路(lù)的發展(zhan)經曆了(le)從G線（436nm）光(guang)🌈刻，H線（405nm）光(guāng)刻，I線（365nm）光(guang)刻，到💋深(shēn)紫外線(xian)DUV光刻（KrF248nm和(hé)ArF193nm）、193nm浸沒式(shi)加多重(zhong)成像技(ji)術⭐（32nm-7nm），在到(dào)極端紫(zǐ)外線（EUV，＜13.5nm）光(guāng)刻的發(fā)展，甚至(zhi)采用非(fēi)光學光(guang)刻（電子(zǐ)束曝光(guāng)、離子束(shù)曝光），以(yi)相應波(bo)長爲感(gǎn)光波長(zhang)的各類(lei)光刻膠(jiāo)也應用(yong)而生✊。 光(guāng)刻膠市(shì)場行業(yè)集中度(dù)高。日本(ben)企業在(zai)半導體(ti)光刻膠(jiāo)領🌂域占(zhan)據絕對(duì)優勢。半(bàn)導體光(guang)刻膠主(zhu)要生産(chǎn)企業👅包(bao)括日本(běn)東京☀️應(ying)化、JSR、住友(you)化學、信(xin)越化學(xué)；韓國東(dong)進世美(měi)🎯肯；美國(guo)陶氏杜(du)邦，其中(zhong)日本企(qǐ)業占據(ju)約70%市場(chǎng)份額。分(fèn)産品看(kàn)，東京應(yīng)化在g線(xiàn)/i線和🔞Krf光(guāng)刻膠領(lǐng)域居龍(lóng)頭地位(wèi)，市場🏒份(fèn)額分别(bie)達到27.5%和(hé)32.7%。JSR在Arf光刻(ke)膠領域(yù)市占率(lü)最高，爲(wei)25.6%。 根據富(fu)士經濟(jì)預測，2023年(nián)全球ArF、KrF膠(jiao)産能🈚有(yǒu)望達❗到(dào)1870、3650噸，市場(chang)規模近(jìn)49、28億元。日(rì)本光刻(kè)膠龍頭(tou)JSR、TOK包括光(guāng)刻膠在(zài)内的業(ye)務毛利(li)率約40%，其(qi)中光刻(kè)膠原料(liào)成本約(yuē)占90%。 國内(nei)半導體(tǐ)用光刻(kè)膠生産(chan)企業包(bāo)括上海(hai)新陽、南(nán)大光電(diàn)、晶瑞股(gu)份、北京(jing)科華、恒(heng)坤股份(fen)。目前隻(zhī)有北京(jīng)科華、晶(jīng)瑞股份(fen)具備量(liàng)産KrF光刻(ke)膠能力(li)，北京科(ke)華産品(pin)已爲中(zhong)芯國際(ji)供貨。上(shàng)海新陽(yáng)在建的(de)19000噸/年🆚ArF（幹(gàn)法）光刻(ke)膠項目(mu)預計2022年(nián)達産。   面(miàn)闆光刻(ke)膠 光刻(kè)膠📧是LCD面(miàn)闆制🌂造(zao)的關鍵(jian)材料，根(gen)據使用(yòng)對象的(de)不同，又(you)可分🚶爲(wèi)RGB膠、BM膠🛀🏻、OC膠(jiao)、PS膠、TFT膠等(deng)。 面闆光(guang)刻膠主(zhǔ)要包括(kuo)💜TFT配線用(yòng)光刻膠(jiao)、LCD/TP襯墊料(liao)光刻膠(jiao)、彩色🔞光(guang)刻膠及(ji)黑色光(guang)刻膠四(sì)大類😘别(bie)。其中TFT配(pèi)線用光(guāng)刻膠用(yòng)于對ITO布(bu)線，LCD/TP沉澱(dian)料光刻(ke)膠👅用于(yú)使LCD兩個(gè)玻璃基(jī)闆間的(de)液晶材(cái)料厚度(dù)保持恒(héng)定。彩色(sè)光刻☀️膠(jiao)及黑色(se)光刻膠(jiao)可賦予(yu)彩色濾(lǜ)光片顯(xian)色功能(néng)。 面闆🈲光(guang)刻膠市(shì)場需要(yao)構成♻️穩(wen)定，彩色(se)光⛱️刻膠(jiāo)需求量(liàng)領先，預(yu)計💰2022年全(quán)球銷售(shòu)量将達(da)22900噸，銷售(shou)額将達(da)8.77億美元(yuan)。 TFT面闆用(yòng)光刻膠(jiao)、LCD/TP襯墊料(liao)光刻膠(jiao)、黑色光(guāng)刻膠銷(xiao)售額2022年(nian)預計分(fen)别達✉️到(dào)3.21億😄美元(yuan)、2.51億美元(yuan)、1.99億美元(yuán)。 根據智(zhi)研咨詢(xún)測算，2020年(nián)全球面(mian)闆光刻(ke)膠💛市場(chǎng)規模将(jiāng)達到167億(yì)人民币(bi)，增速維(wei)持在4%左(zuǒ)右。根據(jù)我們的(de)測算，到(dao)2025年光刻(ke)膠市場(chǎng)規模👌将(jiang)達到203億(yì)人民币(bì)。其中，伴(ban)随LCD産🐉業(yè)中心的(de)轉移，我(wǒ)國LCD光✂️刻(kè)膠市場(chang)規模及(ji)😍國産💞化(hua)率有望(wang)逐㊙️步提(tí)升。   PCB用光(guang)刻膠 PCB光(guang)刻膠可(ke)根據塗(tu)布方式(shì)分爲UV固(gu)化油墨(mo)和UV噴塗(tu)油墨。目(mù)前國内(nèi)PCB油墨供(gòng)應商已(yǐ)逐步實(shí)現國産(chǎn)替代，容(rong)大❌感⛹🏻‍♀️光(guāng)、廣信材(cai)料等企(qi)業已掌(zhang)握PCB油墨(mò)關鍵技(ji)術。 國内(nei)對TFT光刻(kè)膠和🐪半(bàn)導體光(guāng)刻膠仍(réng)在起步(bù)探索階(jiē)段。晶瑞(rui)股份、雅(ya)克科技(ji)、永太科(ke)技、容大(da)感光、欣(xīn)奕華、中(zhōng)電彩虹(hóng)、飛凱材(cái)🆚料在TFT光(guang)刻膠領(ling)域均有(you)布❤️局，其(qí)中飛凱(kǎi)材料、北(bei)旭電💔子(zǐ)規劃産(chǎn)能👄高達(dá)5000噸/年，雅(ya)克科技(jì)通過收(shōu)購LG化學(xue)下屬🐇彩(cǎi)色光刻(ke)膠事業(ye)部切入(ru)此市場(chǎng)，在渠道(dao)和技術(shù)方面具(jù)備優勢(shi)。 光刻膠(jiao)等技術(shù)壁壘極(jí)高的行(háng)業，實現(xian)技術層(ceng)面的突(tu)破是基(jī)礎、其次(ci)，需不斷(duan)改進工(gong)藝，滿足(zú)🈲半導🌈體(ti)行業快(kuai)速發❌展(zhǎn)的需要(yào)。 由于光(guāng)刻膠等(děng)行業認(ren)證時🌈間(jiān)較長，客(ke)戶不會(hui)輕易更(gèng)換供應(yīng)商，因此(ci)進入主(zhu)流供應(yīng)鏈是極(ji)其必🙇🏻要(yào)的。國内(nèi)光刻膠(jiāo)生産商(shang)未來有(you)望把🔴握(wo)中國半(bàn)導體行(hang)業進口(kou)替代契(qi)🔆機，實現(xiàn)快速發(fā)展。   ◆ 資料(liao)來源：電(dian)子材料(liào)圈 ◆ 免責(zé)聲明㊙️：所(suǒ)載内容(rong)來源于(yú)互聯網(wǎng)，微信公(gōng)衆号等(deng)公開渠(qu)道，我們(men)對文中(zhōng)觀點持(chí)中立态(tài)度，本文(wén)僅供參(cān)考、交流(liú)。轉載的(de)稿件版(bǎn)權歸原(yuan)作者和(he)機構所(suǒ)有。

發布(bu)時間:

2025-12-13

中國(guo)中化：兩(liǎng)化重組(zǔ)正式落(luo)子雄安(an)！

中國中(zhong)化是由(yóu)中國中(zhōng)化集團(tuan)有限公(gong)司與中(zhong)國化工(gong)集團有(you)限公司(si)聯合重(zhong)組而成(chéng)，爲國務(wu)院國資(zī)委監管(guǎn)🛀的國有(you)重😍要骨(gu)幹企業(ye)，員工22萬(wan)人。

發布(bù)時間:

2025-12-13

上海(hai)新陽：與(yǔ)Heraeus簽訂《合(hé)作備忘(wàng)錄》，推進(jìn)半導體(ti)光刻膠(jiāo)發展

　　近(jìn)日，上海(hǎi)新陽半(bàn)導體材(cai)料股份(fen)有限公(gong)司發布(bu)了關于(yú)♊簽訂《合(hé)作備忘(wàng)錄》的公(gong)告，公告(gao)顯示上(shàng)海新陽(yang)與 HeraeusDeutschland GmbH & Co. KG(以🚩下(xia)簡稱“Heraeus”)簽(qiān)🈲署的🐪《合(hé)作備忘(wang)錄》系雙(shuang)方就建(jian)立合🏒作(zuo)關系而(ér)簽署的(de)框架協(xié)議，爲解(jie)決中國(guó)半導體(tǐ)供應鏈(liàn)面臨㊙️的(de)新挑戰(zhan)❗，推進半(ban)導體光(guang)刻膠的(de)發展，雙(shuāng)方将深(shen)度合作(zuò)，共同努(nu)力優化(hua)創新的(de)光刻膠(jiao)解決🌂方(fang)案。   　　圖片(piàn)來源：上(shàng)海新陽(yáng)   　　公告稱(chēng)上海新(xīn)陽作爲(wei)國内集(jí)成電路(lù)制造關(guan)鍵工藝(yì)材料供(gòng)應商，自(zì)立項進(jìn)行光刻(kè)膠項目(mù)研發🐆以(yǐ)來，将突(tu)破集成(chéng)電路高(gāo)端光刻(kè)膠國外(wài)壟斷，實(shi)現集成(cheng)電路✊高(gao)端光刻(kè)膠材料(liao)的國産(chǎn)化作爲(wèi)發展☔目(mu)标，在ArF幹(gan)法、KrF厚膜(mó)及I線🤩光(guang)刻膠方(fāng)🆚面已有(you)技術與(yu)産品的(de)突破，部(bu)分産品(pǐn)已經拿(ná)到訂單(dan)。   　　上海新(xīn)陽表示(shi)，公司與(yǔ)Heraeus簽署本(ben)㊙️協議，旨(zhǐ)在完善(shan)光刻膠(jiāo)供應鏈(lian)，爲光刻(kè)膠項目(mu)的開展(zhan)提供材(cái)料和技(jì)🙇‍♀️術保障(zhang)，對加快(kuai)公司集(ji)成電路(lù)制造❓用(yòng)光刻膠(jiao)産品研(yan)發項目(mù)進度有(you)積極影(yǐng)響，有利(li)于加速(su)落實公(gong)司🌈發展(zhan)戰略，提(ti)高公司(si)可持續(xù)發展能(neng)力。   　　據上(shàng)海新陽(yang)2021年第三(sān)季度報(bao)告顯示(shi)，今年前(qián)三季度(du)公司實(shi)現營🏒業(ye)收入實(shí)現營業(yè)收入71,195.83萬(wan)元，較上(shang)年同比(bi)增長46.31%;實(shi)現歸屬(shǔ)于上🌍市(shi)公司股(gu)東的淨(jing)利潤8492.42萬(wàn)元，較上(shàng)年同比(bi)下降51.99%。   　　在(zài)先前的(de)三季度(dù)業績預(yu)告中🈲，上(shàng)海新陽(yáng)表示： 　　年(nián)初至報(bao)告🐇期末(mò)，公司營(yíng)業收入(rù)繼續保(bǎo)持大幅(fú)增🌏長🛀，半(ban)導體和(he)塗料業(yè)務銷售(shou)收入均(jun)實現了(le)50%左右的(de)👣增長; 　　由(yóu)于公司(sī)開展光(guang)刻膠項(xiàng)目和參(cān)與國家(jia)重大🔅科(kē)技項目(mù)，研發投(tou)入持續(xu)加大，研(yán)發費用(yong)增加明(míng)顯。   　　今年(nián)6月末，上(shàng)海新陽(yáng)發布公(gōng)告稱，公(gong)司自主(zhu)研發的(de)KrF(248nm)厚膜光(guang)刻膠🏃🏻‍♂️産(chan)品近日(rì)已通過(guo)客戶認(ren)證，并成(chéng)功取得(dé)第一筆(bǐ)訂單。公(gong)告稱，上(shang)㊙️海新🛀🏻陽(yang)開發的(de)365nm I線、248nm KrF、193nm ArF幹法(fǎ)及濕法(fǎ)光刻膠(jiāo)可适應(yīng)國内0.35-0.11微(wei)米、90-28nm芯片(pian)工藝技(ji)術節點(dian)的需求(qiú)。   　　12月13日，上(shàng)海新陽(yáng)在投資(zi)者互🆚動(dòng)平台表(biǎo)示，目前(qian)KrF光刻膠(jiāo)有持續(xu)訂單，ArF光(guāng)刻膠尚(shàng)在認證(zheng)當中。 　　來(lai)源：勢銀(yín)膜鏈

發(fa)布時間(jiān):

2025-12-13

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